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引言 晶圆表面粗糙度是半导体制造中的关键质量指标,直接影响薄膜沉积均匀性、光刻对准精度及器件电学性能。无论是硅衬底的原始表面,还是经过抛光、蚀刻、沉积等工艺处理....